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半导体行业废气怎么处理?耀先焚烧炉解决燃眉之急

       半导体行业废气处理 中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物,分离和处理难度比较大。

半导体行业废气处理

耀先环境废气粉尘治理13年经验

       半导体行业VOCs废气处理焚烧炉RTO技术工艺原理介绍:

       焚烧炉RTO技术工艺其原理是有机废气经过旋转分配阀进入蓄热室预热,然后进入氧化室,加热升温到800℃以上使有机废气氧化分解成CO2和H2O;从而净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率高达99.5 %,热利用效率达到95%以上。旋转式RTO实现炉体和阀门的相对独立,同时便于安装与维护,结构紧凑,占地面积小。废气通过连续运转的旋转分配阀交替均匀引入,气流顺畅,出口波动范围小,12个蓄热室交替工作,节约设备能耗。旋转式RTO是我公司在消化、吸收外技术的基础上,采取“引进+积累+改进+创新”的方式,自主研发设计的一款有机废气治理设备。

       半导体行业废气处理焚烧炉RTO设备的优势:

       1、设有安全泄温阀,若燃烧室温>设置限值,泄温阀开启,确保安全温度运转;

       2、整套系统采用PLC全自动化控制技术,节能省力,实现无人控制、自动报警,安全可靠;

       3、设有泄爆口,若炉内压力大幅度提升,泄爆口自动开启,合理泄除压力,确保正常运转;

       4、多级安全防护系统,确保蓄热焚烧炉设备系统安全稳定运行;

       5、压力波动小,出口浓度波动小;

       6、占地面积小。

焚烧炉系列2020-12-23

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