半导体行业废气处理 中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物，分离和处理难度比较大。

耀先环境粉尘废气处理15年经验

         半导体行业VOCs废气处理焚烧炉RTO技术工艺原理介绍：

         焚烧炉RTO技术工艺其原理是有机废气经过旋转分配阀进入蓄热室预热，然后进入氧化室，加热升温到800℃以上使有机废气氧化分解成CO2和H2O；从而净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率高达99.5 %，热利用效率达到95%以上。旋转式RTO实现炉体和阀门的相对独立，同时便于安装与维护，结构紧凑，占地面积小。废气通过连续运转的旋转分配阀交替均匀引入，气流顺畅，出口波动范围小，12个蓄热室交替工作，节约设备能耗。旋转式RTO是我公司在消化、吸收外技术的基础上，采取“引进+积累+改进+创新”的方式，自主研发设计的一款有机废气治理设备。

         半导体行业废气处理焚烧炉RTO设备的优势：

         1、设有安全泄温阀，若燃烧室温＞设置限值，泄温阀开启，确保安全温度运转；

         2、整套系统采用PLC全自动化控制技术，节能省力，实现无人控制、自动报警，安全可靠；

         3、设有泄爆口，若炉内压力大幅度提升，泄爆口自动开启，合理泄除压力，确保正常运转；

         4、多级安全防护系统，确保蓄热焚烧炉设备系统安全稳定运行；

         5、压力波动小，出口浓度波动小；

         6、占地面积小。

耀先环境粉尘废气处理经验丰富效果佳

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